Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd.
Aktualności

Wiadomości branżowe

Jak czytać tabelę testu rozdzielczości USAF z 1951 r.?17 2024-07

Jak czytać tabelę testu rozdzielczości USAF z 1951 r.?

Karta testu rozdzielczości USAF (Siły Powietrzne Stanów Zjednoczonych) z 1951 r. jest niezbędnym narzędziem stosowanym w dziedzinie optyki i obrazowania do oceny zdolności rozdzielczej różnych systemów obrazowania, w tym kamer, mikroskopów, teleskopów, a nawet ludzkiego oka. Mapa ta, zaprojektowana przez USAF w 1951 roku, stała się branżowym standardem pomiaru rozdzielczości przestrzennej i jest powszechnie uznawana za swoją dokładność i wszechstronność. W tym artykule zagłębimy się w zawiłości czytania i interpretacji tabeli testu rozdzielczości USAF z 1951 roku.
Niezastąpiona rola płytki kalibracyjnej systemów wizyjnych17 2024-07

Niezastąpiona rola płytki kalibracyjnej systemów wizyjnych

W stale zmieniającym się krajobrazie współczesnej nauki i technologii precyzja i dokładność stały się najważniejszymi czynnikami napędzającymi innowacje w różnych branżach. Jednym z kluczowych narzędzi zapewniających spełnienie tych standardów jest tablica kalibracyjna systemów wizyjnych. Ta specjalistyczna tablica wzorcowa służy jako kamień węgielny do kalibracji i pomiarów szeregu urządzeń, w tym kamer, kamer wideo, dalmierzy laserowych, radarów i innych.
Jakie jest zastosowanie celu optycznego?16 2024-07

Jakie jest zastosowanie celu optycznego?

W dziedzinie optyki precyzja i dokładność są najważniejsze. Niezależnie od tego, czy chodzi o zapewnienie ostrego ogniskowania soczewki teleskopu, kalibrację lasera w celu precyzyjnego cięcia, czy też uchwycenie skomplikowanych szczegółów w obrazowaniu medycznym, każdy aspekt działania systemu optycznego opiera się na skrupulatnych pomiarach i regulacjach. Tutaj z pomocą przychodzi celownik optyczny, narzędzie wszechstronne i niezastąpione.
Jaka jest różnica między fotomaską a opłatkiem?16 2024-07

Jaka jest różnica między fotomaską a opłatkiem?

W skomplikowanym świecie produkcji mikroelektroniki fotomaski i płytki odgrywają kluczową rolę, a jednocześnie służą różnym celom w szerszym procesie produkcyjnym. Zrozumienie podstawowych różnic między tymi dwoma krytycznymi komponentami jest niezbędne, aby docenić złożoność nowoczesnej produkcji półprzewodników.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept