Aktualności

Fotomaski, zwane także po prostu maskami, są niezbędnymi narzędziami w produkcji układów scalonych (IC), czyli „chipów”. Te nieprzezroczyste płyty z przezroczystymi obszarami, które pozwalają światłu prześwitywać według określonego wzoru, odgrywają kluczową rolę w procesie fotolitografii, który jest jednym z kluczowych etapów produkcji półprzewodników. W tym artykule przyjrzymy się, w jaki sposób fotomaski są wykorzystywane w produkcji układów scalonych.

W świecie produkcji półprzewodników fotomaski i siatki odgrywają kluczową rolę w produkcji układów scalonych (IC). Chociaż terminy te są często używane zamiennie, w rzeczywistości odnoszą się do odrębnych komponentów o określonych funkcjach. Zrozumienie różnicy między fotomaską a siatką celowniczą jest niezbędne dla każdego, kto zajmuje się przemysłem mikroelektroniki.

Hologramy generowane komputerowo (CGH) zrewolucjonizowały dziedzinę holografii, umożliwiając cyfrowe tworzenie i wyświetlanie trójwymiarowych obrazów bez konieczności stosowania tradycyjnych holograficznych materiałów rejestrujących. Hologramy te wykorzystują algorytmy obliczeniowe do symulacji wzorców interferencji, które utworzyłyby rzeczywisty obiekt, umożliwiając generowanie obrazów holograficznych, które można wyświetlić przy użyciu różnych technik. W tym artykule omówimy podstawowe etapy tworzenia hologramu generowanego komputerowo, ze szczególnym uwzględnieniem hologramów Fouriera, które reprezentują ważną klasę CGH.

W stale zmieniającym się krajobrazie nowoczesnych technologii precyzja i dokładność stały się najważniejsze w różnych gałęziach przemysłu. W tym miejscu wkracza tablica kalibracji obrazu maszynowego (MVCB), odgrywająca kluczową rolę w zapewnieniu optymalnego działania kamer, kamer wideo, dalmierzy laserowych, radarów i innego sprzętu wizyjnego.