Aktualności

W dziedzinie precyzyjnych pomiarów i oprzyrządowania linijka ze szkła optycznego okazała się narzędziem zmieniającym zasady gry, przesuwającym granice dokładności i niezawodności. To innowacyjne urządzenie wykorzystuje niezrównaną przejrzystość i stabilność wymiarową szkła optycznego, aby stworzyć linijkę, która wyznacza nowe standardy liniowości, powtarzalności i trwałości.

W dziedzinie optycznych systemów obrazowania najważniejsza jest dokładna ocena zdolności rozdzielczej instrumentu. Aby sprostać tej potrzebie, Siły Powietrzne Stanów Zjednoczonych (USAF) opracowały w 1951 r. pionierskie narzędzie zgodne ze standardem MIL-STD-150A: kartę testową rozdzielczości USAF z 1951 r. To mikroskopijne urządzenie testujące rozdzielczość optyczną stało się od tego czasu wszechobecnym punktem odniesienia do oceny przejrzystości i możliwości rejestrowania szczegółów różnych systemów obrazowania.

W dziedzinie precyzyjnej metrologii optycznej hologramy generowane komputerowo (CGH) okazały się potężnymi narzędziami do testowania i pomiaru złożonych powierzchni optycznych. Wśród nich, cylindry CGH Null zyskały znaczną uwagę ze względu na ich zdolność do dokładnej oceny powierzchni cylindrycznych. W tym artykule omówiono zasady, konstrukcję i zastosowania cylindrów CGH Null, podkreślając ich rolę w zwiększaniu możliwości testowania optycznego.

Hologramy generowane komputerowo (CGH) zrewolucjonizowały dziedzinę testów optycznych, szczególnie w pomiarach powierzchni asferycznych. Wśród różnych technik CGH, korektory zerowe CGH odgrywają kluczową rolę w zapewnieniu wysokiej dokładności i niezawodności. W artykule omówiono zasady, rozważania projektowe i zastosowania korektorów zerowych CGH, podkreślając ich znaczenie w precyzyjnych testach optycznych.

Fotomaski, zwane także po prostu maskami, są niezbędnymi narzędziami w produkcji układów scalonych (IC), czyli „chipów”. Te nieprzezroczyste płyty z przezroczystymi obszarami, które pozwalają światłu prześwitywać według określonego wzoru, odgrywają kluczową rolę w procesie fotolitografii, który jest jednym z kluczowych etapów produkcji półprzewodników. W tym artykule przyjrzymy się, w jaki sposób fotomaski są wykorzystywane w produkcji układów scalonych.

W świecie produkcji półprzewodników fotomaski i siatki odgrywają kluczową rolę w produkcji układów scalonych (IC). Chociaż terminy te są często używane zamiennie, w rzeczywistości odnoszą się do odrębnych komponentów o określonych funkcjach. Zrozumienie różnicy między fotomaską a siatką celowniczą jest niezbędne dla każdego, kto zajmuje się przemysłem mikroelektroniki.